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場地與景觀設計圖解 Plan graphics     編作者：(美)戴維.A.戴維斯(David A. Davis)，(美)西奧多.D.沃克(Theodore D. Walker)著  譯 者：蔡紅譯   出 版 者 ：中國建築工業出版社 出版日期：2010-4-1 版 次：1 頁 數：264 規 格：膠版紙 尺 寸：19×26cm ISBN書號：9787112118632 定 價：NT 483 元 網路價：NT 373 元 (未稅)   前言 第一章 平面制圖及創作過程 緒論 開始之前 建構你的畫面 文字及書法 第二章 彩色圖 第三章 場地分析 第四章 概念設計 第五章 施工文件 第六章 精美的渲染圖、剖面圖及立面圖  作為一名景觀設計師，你的成功在很大程度上將依賴于你繪畫及渲染的水準一一你將在設計的各個階段以此來表達自己的設計思想。本書將為你提供大量範圖，並教你如何創作具有說服力的示意圖，以便向既定的觀眾清晰、準確、完美地表達你的設計構思。本書作者通過大量當代設計作品，向你展示了最佳的傳統圖像表現方式以及在某些先進的景觀建築公司中所采用的創新技術。新版本的特色包括︰包含了設計進程各階段的圖像表現方式；手繪渲染與計算機技術相結合；內容涉及文字、彩圖、場地分析、方案圖、施工文件及精美的渲染圖、剖面圖和立面圖；275幅全新範圖；48頁彩圖畫廊；作品來自近50家知名公司以及Mesa設計集團。 本書曾經在圖像表現技術方面培養了一代景觀設計師，其更新擴充後的版本(即第五版)將成為景觀設計學的學生及剛入門的景觀設計師們的必備讀物。它也可作為景觀設計師、建築師、規劃設計師、土木工程師及景觀工程承包商們有用的工作資料。  本書包含了涉及進程各階段的圖像表現方式，手繪渲染與計算機技術相結合，內容涉及文字、彩圖、場地分析、方案圖、施工文件及精美的渲染圖、剖面圖和立面圖。 從事設計專業成功的重要條件，就是具備獨到的眼光及表達觀點的能力。雖然觀察力的形成需要長期的學習與積累，但是，我們可以在職業生涯中不斷改變並完善我們的繪圖技術，以形成獨特的風格。在設計過程中，我們渴望以長期積累的理念及來自主客觀資源的靈感去彌補觀察力的不足。本書恰恰在高品質設計圖的繪制技巧方面給設計業人士帶來某些啟迪，書中所表現的圖形圖像技術有助于你形成自己的圖像表現風格。本書是一部關于風景建築的繪畫藝術與科學的經典教程，擁有全新的圖像範例及專業的設計作品！  為保障客戶權益及避免缺書退款作業的困擾，本店採取二階段的訂購作業流程： (1)客戶將選定商品加入【購物車】待本店客服〔回報供書狀況及應付金額〕，客戶再據以付款 (2)按  即可與客服在線確認書況及下訂
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